该晶圆研制厂建在华北区域，首要种植8屏幕尺寸半导体芯片晶圆，平均生活污水产生量约800吨。因种植流程中利用大量的氢氧化钠实现晶圆蚀刻，引起生活污泥里氟化物浓硫酸浓度超过200-300mg/L，远超地方产生规范（10mg/L如下）。 污水营养成分及起源 废气主要出于6个阶段： 晶圆蚀刻制作工艺 ：含高盐浓度氟化物（HF）、硝酸铵及极少量血本属 化学式自动化研磨抛光处理（CMP）废渣 ：含nm级硅科粒、有机质络合剂 装置洗废液 ：含异丙醇、氟化物等生产物 鑫霖环保设备工作流程 通过"药剂学发展物中+水泥混凝土发展物中+长度脱水"3级治理设计： 1阶段处理 ：添加氯化钙和氢钝化钙，组成氟化钙奠定，氟化物除掉率达85% 二次元操作 ：添加图片PAC（整合氯化铝）和PAM（高分子聚乙烯酰胺），彻底清除固体态造成的污染源 四级办理 ：借助多有机溶剂过滤水器和抗逆性炭吸附性，冒水氟化物浓度值安稳在8mg/L之下 关键性主设备包含：pH会自动调系统性、斜管沉淀出的池、板框刮刀离心机（厌氧颗粒污泥脱水情况）。 从而目的 业务运动五年监测网数据体现 体现 ： 氟化物平衡有机废气浓度：7.2mg/L（高于一个国家标） COD快速清理率：92% 污泥干化含水量率：≤65% 年收回氟化钙副厂品约150吨，建立影视无害化合理利用